天星致力于為電子行業(yè)提供好的產(chǎn)品、技術(shù)和服務(wù)。通過我們的ISO體系認(rèn)證和質(zhì)量保證體系，過程控制，保持嚴(yán)格的程序來監(jiān)控和提高產(chǎn)品質(zhì)量。

天星的電子氣體在半導(dǎo)體器件、光伏、液晶面板的制造中發(fā)揮著重要作用。這些氣體用于制造過程的所有階段 – 從形成單個(gè)硅晶體的生長(zhǎng)，到晶圓制造，至最終組裝和包裝。

前驅(qū)體氣體

硅烷和二氯硅烷等硅前體氣體用于外延和化學(xué)氣相沉積工藝，以沉積硅或硅化合物層。

摻雜氣體

摻雜劑氣體是可控雜質(zhì)的來源，用于改變半導(dǎo)體材料的局部電氣性能。摻雜劑對(duì)分子晶格的局部結(jié)構(gòu)貢獻(xiàn)了電子，改變了材料的導(dǎo)電性能。

摻雜劑有液態(tài)、固態(tài)和氣態(tài)。常用的摻雜氣體有砷烷、磷烷、乙硼烷。摻雜劑用于外延沉積、擴(kuò)散和離子注入。砷烷和磷烷的增長(zhǎng)得益于氣相外延法（VPE）和金屬有機(jī)氣相沉積法（VMOCVD）的廣泛應(yīng)用。

蝕刻劑氣體

蝕刻工藝中使用到多種氣體。鹵素?zé)N通常用于蝕刻硅化合物或用于腔室的清潔，氯或氟化合物用于金屬蝕刻。氣體的選擇在很大程度上取決于給定的氣體混合物選擇性地蝕刻一層薄膜的能力，并能夠?qū)喞M(jìn)行控制。三氟化氮是CVD腔室清潔的氣體。

工藝氣體

高純、超高純的氬、氦、氫和氮，在電子工藝中用于系統(tǒng)的吹掃和保壓，防止管路系統(tǒng)受到污染。濺射鍍膜工藝中，氬是用來電離和啟動(dòng)濺射過程的主要?dú)怏w。

電子用混合氣體

在天星電子特氣（蘇州）工廠，混合氣體按照電子行業(yè)要求的嚴(yán)格的公差進(jìn)行混合配制。混合氣配制系統(tǒng)旨在減少氣瓶間和生產(chǎn)批次間的差異。混合氣配制系統(tǒng)使用計(jì)算機(jī)建模能保證產(chǎn)品中的雜質(zhì)水平和組分公差得到有效的控制，符合行業(yè)要求的規(guī)格。